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电离层H2O释放扰动效应的数值模拟研究
化学物质释放 电离层扰动 电离层洞 扩展F
2018/5/4
为充分研究化学物质在电离层释放的扰动效应和后期发展效果，基于化学物质在电离层的扩散模型、化学反应和电离层扩展F的控制模型，通过电离层H2O的释放，研究电子e，H2O，O+和H2O+共4种粒子的分布状态，分析点源、多源和线源释放对电离层的扰动效果，比较不同高度、不同量和不同时间释放的影响结果，模拟夜间释放后期所激发的扩展F发展差异.结果表明，H2O在电离层释放后，能有效耗散背景电子形成空洞，O+和H...